集成电路CMOS器件制造关键工艺虚拟仿真技术
日期:2024-03-22  作者:科研部   来源:  浏览量:10

讲座时间、地点:2024年3月22日 A1-316

主讲人信息:申人升、教授、大连理工大学微电子学院副院长

讲座内容:

集成电路(IC)产业是信息技术产业的核心,是支撑经济社会发展和保障国家安全的战略性、基础性和先导性产业,是引领新一轮科技革命和产业变革的关键力量。本次讲座选取 IC 产业中典型的CMOS 器件结构,重点讲解深亚微米 CMOS制程中的关键工艺(薄膜沉积、光刻、离子注入、刻蚀)的原理及工艺操作。采用单机客户端版、网络在线版以及 VR 体验版对当前集成电路芯片领域最为常见的 CMOS 工艺进行“沉浸式”体验学习。

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